칩 제조용 자기 부상 윤활 분자 진공 펌프
자기 부상 펌프, CXF-200/1401, 수냉식, 온보드 시리즈 자기 부상 분자 펌프는 주로 반도체 제조, 클립 제조, 산업 도금 및 과학 장비 분야에 적용되며 특히 식각, cvd, pvd 및 이온 주입에 존재하는 부식성 가스와 상온에서 쉽게 응고되는 가스의 추출에 적용됩니다. 장점: 1. 작동 중 마찰이 없고 전력 소모가 적습니다. 2. 펌프에 윤활유를 사용하지 않고도 매우 깨끗한 고진공 및 초고진공을 쉽게 얻을 수 있습니다. 3. 부식성 가스를 장기간 추출 가능 4. 정밀 세라믹 볼로 베어링을 보호하여 안전성이 높고 수명이 길...
칩 제조 분자 진공 펌프
,매그레브 분자 진공 펌프
자기 부상 펌프, CXF-200/1401, 수냉식, 온보드
시리즈 자기 부상 분자 펌프는 주로 반도체 제조, 클립 제조, 산업 도금 및 과학 장비 분야에 적용되며 특히 식각, cvd, pvd 및 이온 주입에 존재하는 부식성 가스와 상온에서 쉽게 응고되는 가스의 추출에 적용됩니다.
장점:
1. 작동 중 마찰이 없고 전력 소모가 적습니다.
2. 펌프에 윤활유를 사용하지 않고도 매우 깨끗한 고진공 및 초고진공을 쉽게 얻을 수 있습니다.
3. 부식성 가스를 장기간 추출 가능
4. 정밀 세라믹 볼로 베어링을 보호하여 안전성이 높고 수명이 길다.
5. 갑작스런 전원 차단시 발전 기능
명세서:
| 모델 | CXF-200/1401 |
| 펌프 속도(l/s,공기) | 1400 |
| 압축비 | >1×107 |
| 극진공(Pa) | ≤2×10-6 |
| 입구 플랜지 | DN200 ISO K(LF) |
| DN200 ISO F | |
| DN200 ISO CF | |
| 출구 플랜지 | KF 40 |
| 회전속도(rpm) | 33000 |
| 실행 시간(분) | 6 |
| VIB(mm) | <0.05 |
| 배압 펌프(L/s) | 15 |
| 장착 또는 방향 | 어느 |
| 냉각방식 | 물 |
| 무게(kg)(컨트롤러 포함) | 51 |