پمپ های توربو و سیستم های پمپاژ مغناطیسی CXF-250/2301E

پمپ Maglev، CXF-250/2301E، خنک کننده آب، داخل برد

پمپ‌های مولکولی معلق مغناطیسی پمپ‌هایی هستند که محور آنها به واسطه نیروی مغناطیسی پشتیبانی می‌شود.

سری پمپ‌های مولکولی معلق مغناطیسی، تجهیزات تولید خلاء هستند که توسط KYKY برای برآوردن نیازهای کاربردی در زمینه‌های تولید نیمه‌رساناهای مدرن، تولید تراشه، آبکاری صنعتی و ابزارهای علمی توسعه یافته‌اند.

فن آوری ها:

• فناوری کنترل برای بلبرینگ مغناطیسی:یک معلق 5 محوره مغناطیسی، بر اساس تئوری کنترل بین المللی پیشرفته، برای تضمین مزایای قابل توجه شفت با سرعت بالا مانند عملیات معلق و قابل اعتماد.
• فناوری کنترل محرک موتور:موتور با سرعت بالا و سیستم کنترل سروو DC با راندمان بالا، دارای حداکثر انرژی موتور و برای جبران سرعت چرخش شفت به طور خودکار، در نتیجه راه اندازی پایدار، عملکرد قابل اعتماد و عملکرد تنظیم خودکار انرژی دینامیکی را تحقق می بخشد.
• تکنولوژی روتور کامپوزیت فیبر کربن:ساخته شده از ترکیب آلیاژ آلومینیوم با استحکام بالا و فیبر کربن سبک وزن. مشخصه کاهش وزن و بهبود زیاد استحکام است، به طوری که اهداف با سرعت چرخش بالا، عملکرد بالا و قابلیت اطمینان بالا به دست می آیند.
• تکنولوژی مقاوم در برابر خوردگی:سطوح قطعات در محفظه ها با فرآیند خاصی پردازش می شوند، به طوری که سطوح می توانند برای مدت طولانی در برابر خوردگی ناشی از گازهای خورنده در فرآیندهای ساخت نیمه هادی مقاومت کنند. علاوه بر این، گازهای بی اثر مانند N2 به طور کامل در شفت پمپ ها پر می شوند تا از قطعات خلاء کم در پمپ ها محافظت کنند، به طوری که عملکرد گازهای خورنده پایدار برای مدت طولانی محقق می شود.
• سیستم کنترل دمای گرمایش:مجهز به بخاری برقی و کنترل کننده دما، آب خنک کننده، گرمایش هوا به استخوان، گرمایش الکتریکی و گرمای منتقل شده توسط گازهای محافظ در حین کار قابل نظارت و کنترل هستند، دمای پمپ ها را می توان برای مدت طولانی در مقداری نگه داشت، برخی از مواد گازی در دمای معمولی به مواد جامد تبدیل نمی شوند و در پمپ ها رسوب نمی کنند، و الزامات برای فرآیند خاص مانند اچینگ می تواند باشد.

برنامه های کاربردی:

سری پمپ های مولکولی معلق مغناطیسی عمدتاً در زمینه های تولید نیمه هادی ها، ساخت گیره، آبکاری صنعتی و ابزارهای علمی، به ویژه برای استخراج گازهای خورنده موجود در اچ، CVD، PVD و کاشت یون و گازهایی که به راحتی در دمای معمولی منعقد می شوند، استفاده می شود.

مشخصات: