자석으로 튀는 터보펌프 및 펌프 시스템 CXF-250/2301E

자기 부상 펌프, CXF-250/2301E, 수냉식, 온보드

자기부상 분자펌프는 자기력에 의해 샤프트가 지지되는 펌프이다.

시리즈 자기 부상 분자 펌프는 현대 반도체 제조, 칩 제조, 산업용 도금 및 과학 장비 분야의 응용 요구 사항을 충족하기 위해 KYKY에서 개발한 진공 생성 장비입니다.

기술:

• 자기 베어링 제어 기술:고급 국제 제어 이론을 기반으로 한 5축 자기 부상 장치는 안정적인 부상 및 안정적인 작동과 같은 고속 샤프트의 중요한 이점을 보장합니다.
• 모터 드라이브 제어 기술:고효율 고속 DC 모터 및 서보 제어 시스템으로 모터의 에너지를 최대화하고 축의 회전 속도를 자동으로 보상하여 안정적인 시동, 안정적인 작동 및 동적 에너지의 자동 조절 기능을 실현합니다.
• 탄소 섬유 복합 로터 기술:고강도 알루미늄 합금과 경량 탄소섬유를 복합하여 제작되었습니다. 중량을 크게 줄이고 강도를 크게 향상시켜 높은 회전 속도, 고성능 및 높은 신뢰성이라는 목표를 달성합니다.
• 부식 방지 기술:챔버 내 부품 표면을 특수 가공 처리하여 반도체 제조 공정에서 발생하는 부식성 가스로 인한 부식을 장기간 견딜 수 있습니다. 또한, 펌프 샤프팅에 N2 등의 불활성 가스를 가득 채워 펌프 내부의 저진공 부분을 보호함으로써 부식성 가스를 장기간 안정적으로 배출하는 기능을 구현합니다.
• 가열 온도 제어 시스템:전기 히터 및 온도 조절 장치가 장착되어 냉각수, 에어본 가열, 전기 가열 및 보호 가스에 의해 전달되는 열을 작동 중에 모니터링 및 제어할 수 있으며, 펌프의 온도를 장기간 특정 값으로 유지할 수 있으며, 일부 기체 물질은 상온에서 고체 물질로 변환되지 않고 펌프에 침전되지 않으며, 에칭과 같은 특수 공정에 대한 요구 사항을 충족할 수 있습니다.

신청:

시리즈 자기 부상 분자 펌프는 주로 반도체 제조, 클립 제조, 산업용 도금 및 과학 기기 분야에 적용되며 특히 식각, CVD, PVD 및 이온 주입에 존재하는 부식성 가스 및 상온에서 쉽게 응고되는 가스의 추출에 적용됩니다.

명세서: