33000 giri al minuto Pompa turbomolecolare di raffreddamento dell'acqua con velocità di pompaggio di 1401L/s per rivestimento industriale
Pompa turbomolecolare raffreddata ad acqua da 33.000 giri/min con velocità di 1.401 l/s, lubrificazione maglev e flangia ISO-F/CF 200. Presenta resistenza alla corrosione, funzionamento senza attrito e lunga durata per applicazioni di placcatura industriale e semiconduttori.
1401L/s Pompa turbomolecolare
,Pompa turbomolecolare da 33000 giri/min
,Pompa turbomolecolare di raffreddamento dell'acqua
Pompa Maglev, CXF-200/1401, Raffreddamento ad acqua, A bordo
Il cuscinetto elettromagnetico, chiamato anche "cuscinetto a levitazione magnetica attiva", è costituito da un cuscinetto magnetico, un sensore e un sistema di controllo. Questo design fornisce una risposta dinamica e una regolazione tempestiva, garantendo un'albero ad alta velocità e un funzionamento affidabile.
Le pompe molecolari a levitazione magnetica sono dotate di alberi supportati dalla forza magnetica. Questa serie di pompe è stata sviluppata da KYKY per soddisfare i requisiti applicativi nella moderna produzione di semiconduttori, produzione di chip, placcatura industriale e strumenti scientifici.
- Tecnologia di controllo per cuscinetti magnetici:Presenta un design a levitazione magnetica a 5 assi con tecnologia di controllo dinamico della sospensione magnetica attiva a circuito chiuso per levitazione stabile e funzionamento affidabile dell'albero ad alta velocità.
- Tecnologia di controllo dell'azionamento del motore:Utilizza un motore CC ad alta velocità ad alta efficienza e un sistema di servocontrollo per la massima efficienza energetica, compensazione automatica della velocità dell'albero, avvio stabile e funzionamento affidabile.
- Tecnologia del rotore composito in fibra di carbonio:Rotori turbo realizzati in lega di alluminio ad alta resistenza e composito leggero in fibra di carbonio, che offrono peso ridotto e resistenza migliorata per velocità di rotazione, prestazioni e affidabilità elevate.
- Tecnologia di resistenza alla corrosione:Parti della camera trattate con processi speciali per resistere ai gas corrosivi nella produzione di semiconduttori, con protezione da gas inerte per le parti a basso vuoto che consente un'estrazione stabile dei gas corrosivi a lungo termine.
- Sistema di controllo della temperatura di riscaldamento:Dotato di riscaldatore elettrico e regolatore di temperatura per monitorare e controllare l'acqua di raffreddamento, il riscaldamento tramite aria, il riscaldamento elettrico e il calore del gas protettivo, mantenendo la temperatura ottimale per processi speciali come l'incisione.
- Zero attrito durante il funzionamento con basso consumo energetico
- Facile acquisizione di alto vuoto pulito e ultra-alto vuoto senza lubrificazione della pompa
- In grado di estrarre gas corrosivi a lungo termine
- Elevata sicurezza e lunga durata con protezione del cuscinetto a sfere in ceramica di precisione
- Funzione di generazione di energia durante le situazioni di spegnimento improvviso
| Modello | CXF-200/1401 |
|---|---|
| Velocità della pompa (l/s, aria) | 1400 |
| Rapporto di compressione | >1×10⁷ |
| Vuoto finale (Pa) | ≤2×10⁻⁶ |
| Flangia di ingresso | DN200ISOK(LF) DN200ISO F DN200ISO CF |
| Flangia di uscita | KF40 |
| Velocità di rotazione (rpm) | 33000 |
| Tempo di avviamento (min) | 6 |
| VIB (mm) | <0,05 |
| Pompa di prevuoto (L/s) | 15 |
| Orientamento di montaggio | Qualunque |
| Metodo di raffreddamento | Acqua |
| Peso (kg) (con controller) | 51 |
