Hochvakuumvariante Ionpumpe Bequem betrieben 420L/S Luft 85L/S Ar

Ionenpumpe, 3L-400C, DN150CF, 420L/s Luft, 85L/s Ar, -5KV

Eine Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen und ultrahohen Vakuums. Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das keine kontinuierlich arbeitende Vorpumpe erfordert.

Vorteile:

Diese Pumpenserie bietet Vorteile wie Sauberkeit, hohes Vakuum, keine Geräusche, keine Vibrationen und eine einfache Bedienung.

Anwendungen:

Die Sputter-Ionen-Pumpe ist die Hauptpumpe für ölfreie Ultrahochvakuumanlagen und kann für wissenschaftliche Experimentiergeräte wie Beschleuniger für hochenergetische Teilchen, kontrollierte thermonukleare Reaktionsgeräte, elektrische Vakuumgeräte, Halbleitermaterialien, elektronische Mikroskope und Massenspektrometer sowie andere Industriegeräte, die Ultrahochvakuum erfordern, eingesetzt werden.

Prinzip:

Das Material der Anode ist ein Edelstahlzylinder und das Material der Kathode ist eine Titanplatte. Der Penning-Entladungsprozess ionisiert Gas unter der gemeinsamen Wirkung von Magnetfeld und elektrischem Feld und sorgt so für eine Gasabsaugung.

Die Trioden-Ionenpumpe wurde verbessert, um die Pumprate für Inertgas zu erhöhen. Ionen des Inertgases werden einem streifenden Einfall in das Titangitter der Kathode ausgesetzt, dann neutralisiert und zur Pumpenwand und Anode reflektiert, wo sie mit dem Titanfilm vergraben werden. Da in der Pumpenwand vergrabenes Inertgas aufgrund des positiven Ionenbeschusses nicht freigesetzt wird, erhöht sich die Pumpgeschwindigkeit für Inertgas.

Spezifikationen: