Industrie +7KV Ionenvakuumpumpe 220L/S Luft 2,4L/S Ar arbeitet in einem geschlossenen System
Ionenpumpe, 2L-200C, DN150CF, 220L/s Luft, 2,4L/s Ar, +7KV Die Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen Ultrahochvakuums. Die Sputter-Ionenpumpe ist die Hauptpumpe für ein ölfreies Ultrahochvakuum. Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das ...
Industrie Ionenvakuumpumpe
,220L/S-Ionenvakuumpumpe
,+7KV-Ionenvakuumpumpe
Ionenpumpe, 2L-200C, DN150CF, 220L/s Luft, 2,4L/s Ar, +7KV
Die Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen Ultrahochvakuums. Die Sputter-Ionenpumpe ist die Hauptpumpe für ein ölfreies Ultrahochvakuum. Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das keine kontinuierlich arbeitende Vorpumpe erfordert.
Vorteile:
1. Sauberkeit
2. Hoher Vakuumgrad
3. Kein Lärm
4. Keine Vibration
5. Bequem zu bedienen
Anwendungen:
1. Hochenergetischer Teilchenbeschleuniger
2. Kontrollierte thermonukleare Reaktionsapparatur
3. Elektrisches Vakuumgerät
4. Halbleitermaterial
5. Elektronisches Mikroskop
6. Massenspektrometer
Spezifikationen:
|
Modell |
2L-200C | |||
| Flansch | DN150CF | |||
| Saugvermögen (L/S) | ( Luft) | 220 | ||
| Pumpgeschwindigkeit | (Ar) | 2.4 | ||
| Anlaufdruck (Pa) | ≤5×10-4 | |||
| Enddruck (Pa) | 1×10-8 | |||
| (℃)Backtemperatur | <200 | |||
| Mit Magnet | ||||
| Ohne Magnet | <300 | |||
| Arbeitsspannung (KV) | 7 | |||
| Elektrodeneinheit | 4 | |||
| Abmessung (mm) | 200×140(4-M12) | |||
| L*B*H (mm) | 500×265×430 | |||
| (kg) Gewicht | 100 | |||
