Ultrahohe Vakuum-Sputter-Ionenpumpe Öl weniger 7×10-8 Pa Enddruck
Ionenpumpe, 2L-25, DN35CF, 22L/s Luft, 0,3L/s Ar, +7KV, 7E-8Pa Eine Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen Ultrahochvakuums. Die Sputter-Ionen-Pumpe ist eine Hauptpumpe für ölfreies Ultrahochvakuum. Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das ...
Ultrahochvakuum-Sputter-Ionenpumpe
,ölfreie Sputter-Ionenpumpe
,7×10-8 Pa Sputter-Ionenpumpe
Ionenpumpe, 2L-25, DN35CF, 22L/s Luft, 0,3L/s Ar, +7KV, 7E-8Pa
Eine Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen Ultrahochvakuums.
Die Sputter-Ionen-Pumpe ist eine Hauptpumpe für ölfreies Ultrahochvakuum.
Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das keine kontinuierlich arbeitende Vorpumpe erfordert.
Prinzip:
Das Material der Anode ist ein Edelstahlzylinder und das Material der Kathode ist eine Titanplatte. Der Penning-Entladungsprozess ionisiert Gas unter der gemeinsamen Wirkung von Magnetfeld und elektrischem Feld und sorgt so für eine Gasabsaugung.
Vorteile:
Diese Pumpenserie bietet Vorteile wie Sauberkeit, hohes Vakuum, keine Geräusche, keine Vibrationen und eine einfache Bedienung.
Anwendungen:
Hauptanwendungen sind wissenschaftliche Experimentiergeräte in den Bereichen Hochenergie-Teilchenbeschleuniger, kontrollierte thermonukleare Reaktionsgeräte, elektrische Vakuumgeräte, Halbleitermaterialien, elektronische Mikroskope und Massenspektrometer sowie andere Industriegeräte, die Ultrahochvakuum erfordern.
Spezifikationen:
| Modell | 2L-25 | ||
| Flansch | DN35CF | ||
| Saugvermögen (L/S) | ( Luft) | 22 | |
| Pumpgeschwindigkeit | (Ar) | 0,3 | |
| Anlaufdruck (Pa) | ≤5×10-4 | ||
| Enddruck (Pa) | 7×10-8 | ||
| (℃)Backtemperatur | <200 | ||
| Mit Magnet | |||
| Ohne Magnet | <300 | ||
| Arbeitsspannung (KV) | 7 | ||
| Elektrodeneinheit | 1 | ||
| L*B*H (mm) | 222×121×161 | ||
| (kg) Gewicht | 8 | ||
