Ultrahohe Vakuum-Sputter-Ionenpumpe Öl weniger 7×10-8 Pa Enddruck

Ionenpumpe, 2L-25, DN35CF, 22L/s Luft, 0,3L/s Ar, +7KV, 7E-8Pa

Eine Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen Ultrahochvakuums.

Die Sputter-Ionen-Pumpe ist eine Hauptpumpe für ölfreies Ultrahochvakuum.

Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das keine kontinuierlich arbeitende Vorpumpe erfordert.

Prinzip:

Das Material der Anode ist ein Edelstahlzylinder und das Material der Kathode ist eine Titanplatte. Der Penning-Entladungsprozess ionisiert Gas unter der gemeinsamen Wirkung von Magnetfeld und elektrischem Feld und sorgt so für eine Gasabsaugung.

Vorteile:

Diese Pumpenserie bietet Vorteile wie Sauberkeit, hohes Vakuum, keine Geräusche, keine Vibrationen und eine einfache Bedienung.

Anwendungen:

Hauptanwendungen sind wissenschaftliche Experimentiergeräte in den Bereichen Hochenergie-Teilchenbeschleuniger, kontrollierte thermonukleare Reaktionsgeräte, elektrische Vakuumgeräte, Halbleitermaterialien, elektronische Mikroskope und Massenspektrometer sowie andere Industriegeräte, die Ultrahochvakuum erfordern.

Spezifikationen: