120L/S Luft 1,2L/S Ar Ionenvakuumpumpe Null Lärm für hochenergetischen Teilchenbeschleuniger
Ionenpumpe, 2L-100, DN150CF, 120L/s Luft, 1,2L/s Ar, +7KV Eine Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen und ultrahohen Vakuums mit Vorteilen wie Sauberkeit, hohem Vakuumgrad, Geräuschfreiheit, Vibrationsfreiheit und einfacher Bedienung. Die Ionenpumpe arbeitet ...
Beschleuniger-Ionenvakuumpumpe
,120L/S-Ionenvakuumpumpe
,Null-Lärm-Ionenvakuumpumpe
Ionenpumpe, 2L-100, DN150CF, 120L/s Luft, 1,2L/s Ar, +7KV
Eine Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen und ultrahohen Vakuums mit Vorteilen wie Sauberkeit, hohem Vakuumgrad, Geräuschfreiheit, Vibrationsfreiheit und einfacher Bedienung. Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das keine kontinuierlich arbeitende Vorpumpe erfordert.
Prinzip:
Das Material der Anode ist ein Edelstahlzylinder und das Material der Kathode ist eine Titanplatte. Der Penning-Entladungsprozess ionisiert Gas unter der gemeinsamen Wirkung von Magnetfeld und elektrischem Feld und sorgt so für eine Gasabsaugung.
Anwendungen:
Die Sputter-Ionen-Pumpe ist die Hauptpumpe für ölfreie Ultrahochvakuumanlagen und kann für wissenschaftliche Experimentiergeräte wie Beschleuniger für hochenergetische Teilchen, kontrollierte thermonukleare Reaktionsgeräte, elektrische Vakuumgeräte, Halbleitermaterialien, elektronische Mikroskope und Massenspektrometer sowie andere Industriegeräte, die Ultrahochvakuum erfordern, eingesetzt werden.
Spezifikationen:
| Modell | 2L-100 | ||
| Flansch | DN150CF | ||
| Saugvermögen (L/S) | ( Luft) | 120 | |
| Pumpgeschwindigkeit | (Ar) | 1.2 | |
| Anlaufdruck (Pa) | ≤5×10-4 | ||
| Enddruck (Pa) | 7×10-8 | ||
| (℃)Backtemperatur | <200 | ||
| Mit Magnet | |||
| Ohne Magnet | <300 | ||
| Arbeitsspannung (KV) | 7 | ||
| Elektrodeneinheit | 4 | ||
| Abmessung (mm) | 140×210(4-M10) | ||
| L*B*H (mm) | 350×250×307 | ||
| (kg) Gewicht | 38 | ||
