+7KV Ionenvakuumpumpe Null Vibration 65L/S Luft 0,6L/S Ar Pumpgeschwindigkeit
Ionenpumpe, 2L-50, DN100CF, 65L/s Luft, 0,6L/s Ar, +7KV Eine Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen Ultrahochvakuums. Die Sputter-Ionen-Pumpe ist eine Hauptpumpe für ölfreies Ultrahochvakuum. Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das keine ...
65L/S Ionenvakuumpumpe
,Null-Vibrations-Ionenvakuumpumpe
,+7KV-Ionenvakuumpumpe
Ionenpumpe, 2L-50, DN100CF, 65L/s Luft, 0,6L/s Ar, +7KV
Eine Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen Ultrahochvakuums.
Die Sputter-Ionen-Pumpe ist eine Hauptpumpe für ölfreies Ultrahochvakuum.
Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das keine kontinuierlich arbeitende Vorpumpe erfordert.
Vorteile:
1. Hoher Vakuumgrad
2. Keine Vibration
3. Kein Lärm
4. Sauberkeit
5. Bequem zu bedienen
Anwendungen:
1. Hochenergetischer Teilchenbeschleuniger
2. Kontrollierte thermonukleare Reaktionsapparatur
3. Elektrisches Vakuumgerät
4. Halbleitermaterial
5. Elektronisches Mikroskop
6. Massenspektrometer
Prinzip:
Das Material der Anode ist ein Edelstahlzylinder und das Material der Kathode ist eine Titanplatte. Der Penning-Entladungsprozess ionisiert Gas unter der gemeinsamen Wirkung von Magnetfeld und elektrischem Feld und sorgt so für eine Gasabsaugung.
Spezifikationen:
| Modell | 2L-50 | |||
| Flansch | DN100CF | |||
| Saugvermögen (L/S) | ( Luft) | 65 | ||
| Pumpgeschwindigkeit | (Ar) | 0,6 | ||
| Anlaufdruck (Pa) | ≤5×10-4 | |||
| Enddruck (Pa) | 7×10-8 | |||
| (℃)Backtemperatur | <200 | |||
| Mit Magnet | ||||
| Ohne Magnet | <300 | |||
| Arbeitsspannung (KV) | 7 | |||
| Elektrodeneinheit | 2 | |||
| Abmessung (mm) | 90×90(4-M6) | |||
| L*B*H (mm) | 290×120×299 | |||
| (kg) Gewicht | 22 | |||
