-5KV-Triode-Sputterpumpe Ion-Edelstahl Erhöhung der Inertgas-Pumpenrate

Ionenpumpe, 3L-25, DN35CF, 21L/s Luft, 6L/s Ar, -5KV, 7E-8Pa

Eine Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen Ultrahochvakuums.

Die Sputter-Ionen-Pumpe ist eine Hauptpumpe für ölfreies Ultrahochvakuum.

Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das keine kontinuierlich arbeitende Vorpumpe erfordert.

Prinzip:

Das Material der Anode ist ein Edelstahlzylinder und das Material der Kathode ist eine Titanplatte. Der Penning-Entladungsprozess ionisiert Gas unter der gemeinsamen Wirkung von Magnetfeld und elektrischem Feld und sorgt so für eine Gasabsaugung.

Die Trioden-Ionenpumpe wurde verbessert, um die Pumprate für Inertgas zu erhöhen. Ionen des Inertgases werden einem streifenden Einfall in das Titangitter der Kathode ausgesetzt, dann neutralisiert und zur Pumpenwand und Anode reflektiert, wo sie mit dem Titanfilm vergraben werden. Da in der Pumpenwand vergrabenes Inertgas aufgrund des positiven Ionenbeschusses nicht freigesetzt wird, erhöht sich die Pumpgeschwindigkeit für Inertgas.

Vorteile:

Diese Pumpenserie bietet Vorteile wie Sauberkeit, hohes Vakuum, keine Geräusche, keine Vibrationen und eine einfache Bedienung.

Anwendungen:

Hauptanwendungen sind wissenschaftliche Experimentiergeräte in den Bereichen Hochenergie-Teilchenbeschleuniger, kontrollierte thermonukleare Reaktionsgeräte, elektrische Vakuumgeräte, Halbleitermaterialien, elektronische Mikroskope und Massenspektrometer sowie andere Industriegeräte, die Ultrahochvakuum erfordern.

Spezifikationen: