Varian-ionenpomp met hoog vacuüm Handige bediening 420L/S Lucht 85L/S Ar

Ionenpomp, 3L-400C, DN150CF, 420L/s Lucht, 85L/s Ar, -5KV

Sputter-ionenpomp is apparatuur voor het genereren van vacuüm voor het verkrijgen van schoon en ultrahoog vacuüm. De ionenpomp werkt in een gesloten systeem waarvoor geen continu werkende voorpomp nodig is.

Voordelen:

Deze serie pompen heeft voordelen zoals reinheid, hoge vacuümgraad, geen geluid, geen trillingen en bedieningsgemak.

Toepassingen:

De sputter-ionenpomp is een hoofdpomp van olieloze ultrahoge vacuümsets en kan worden toegepast op wetenschappelijke experimentapparatuur zoals hoogenergetische deeltjesversneller, gecontroleerde thermonucleaire reactieapparatuur, elektrisch vacuümapparaat, halfgeleidermateriaal, elektronische microscoop en massaspectrometer, en andere industriële apparatuur die ultrahoog vacuüm vereist.

Beginsel:

Het materiaal van de anode is een roestvrijstalen cilinder en het materiaal van de kathode-istitaniumplaat. Het Penning-ontladingsproces ioniseert gas onder de gezamenlijke werking van een magnetisch veld en een elektrisch veld, waardoor de afvoer van gas wordt gerealiseerd.

De Triode-ionenpomp is verbeterd om de pompsnelheid voor inert gas te verhogen; ionen van inert gas worden onderworpen aan strijkinval in het titaniumrooster van de kathode, vervolgens geneutraliseerd en gereflecteerd naar de pompwand en anode om te worden begraven met de titaniumfilm. Omdat inert gas dat in de pompwand is begraven niet zal vrijkomen als gevolg van een bombardement met positieve ionen, wordt de pompsnelheid voor inert gas verhoogd.

Specificaties: