Aan boord van 1401l/S turbomoleculaire vacuümpomp industrieel
Maglev-pomp, CXF-200/1401, waterkoeling, aan boord Het elektromagnetische lager wordt ook wel “actieve magnetische zwevende beren” genoemd, bestaande uit een magnetisch lager, een sensor en een besturingssysteem. Dit ontwerp heeft een dynamische respons en tijdige aanpassing, hoge snelheid en ...
1401l/S Turbomoleculaire vacuümpomp
,Industriële turbomoleculaire vacuümpomp
Maglev-pomp, CXF-200/1401, waterkoeling, aan boord
Het elektromagnetische lager wordt ook wel “actieve magnetische zwevende beren” genoemd, bestaande uit een magnetisch lager, een sensor en een besturingssysteem. Dit ontwerp heeft een dynamische respons en tijdige aanpassing, hoge snelheid en betrouwbare werking.
De magnetisch zwevende moleculaire pompen zijn de pompen waarvan de as wordt ondersteund door magnetische kracht.
Serie magnetisch zwevende moleculaire pompen zijn apparatuur voor het genereren van vacuüm, ontwikkeld door KYKY om te voldoen aan toepassingsvereisten op het gebied van moderne halfgeleiderproductie, chipproductie, industriële platering en wetenschappelijke instrumenten.
De voordelen:
1. Geen wrijving tijdens gebruik en laag stroomverbruik
2. Gemakkelijk om echt schoon hoogvacuüm en ultrahoogvacuüm te verkrijgen zonder smering voor pompen
3. Geschikt om corrosieve gassen voor lange termijn te extraheren
4. Hoge veiligheid en lange levensduur dankzij lagerbescherming met keramische precisiekogels
5. energieopwekkingsfunctie in geval van plotselinge uitschakeling
Specificaties:
| Model | CXF-200/1401 |
| Pompsnelheid (l/s, lucht) | 1400 |
| Compressieverhouding | >1×107 |
| Ultiem vacuüm (Pa) | ≤2×10-6 |
| Inlaatflens | DN200 ISO K(LF) |
| DN200 ISO F | |
| DN200 ISO CF | |
| Uitlaatflens | KF 40 |
| Rotatiesnelheid (rpm) | 33000 |
| Aanlooptijd (min) | 6 |
| VIB (mm) | <0,05 |
| Hulppomp (l/s) | 15 |
| Montage of oriëntatie | Elk |
| Koelmethode | Water |
| Gewicht (kg) (met controller) | 51 |
Toepassingen:
Serie magnetisch zwevende moleculaire pompen worden voornamelijk toegepast op het gebied van de productie van halfgeleiders, clipproductie, industriële platering en wetenschappelijke instrumenten, vooral voor de extractie van corrosieve gassen die voorkomen bij ets-, CVD-, PVD- en ionenimplantatie en gassen die gemakkelijk worden gecoaguleerd bij normale temperatuur.
