On Board 1401l/S Endüstriyel Turbomoleküler Vakum Pompası
Maglev Pompası , CXF-200/1401 , Su soğutma , Yerleşik Manyetik yatak, sensör ve kontrol sisteminden oluşan elektromanyetik yatağa “aktif manyetik kaldırılmış ayılar” da denir. Bu tasarım, dinamik tepkiye ve zamanında ayarlamaya, yüksek hızlı şaftlamaya ve güvenilir çalışmaya sahiptir. Manyetik ...
1401l/S Turbomoleküler Vakum Pompası
,Endüstriyel Turbomoleküler Vakum Pompası
Maglev Pompası , CXF-200/1401 , Su soğutma , Yerleşik
Manyetik yatak, sensör ve kontrol sisteminden oluşan elektromanyetik yatağa “aktif manyetik kaldırılmış ayılar” da denir. Bu tasarım, dinamik tepkiye ve zamanında ayarlamaya, yüksek hızlı şaftlamaya ve güvenilir çalışmaya sahiptir.
Manyetik olarak kaldırılan moleküler pompalar, şaftı manyetik kuvvet sayesinde desteklenen pompalardır.
Seri manyetik olarak kaldırılan moleküler pompalar, KYKY tarafından modern yarı iletken üretimi, çip üretimi, endüstriyel kaplama ve bilimsel aletler alanlarındaki uygulama gereksinimlerini karşılamak için geliştirilen vakum üretim ekipmanıdır.
Avantajları:
1. Çalışma sırasında sıfır sürtünme ve düşük güç tüketimi
2. Pompalar için yağlama gerektirmeden gerçekten temiz, yüksek vakum ve ultra yüksek vakum elde etmek kolaydır
3. Aşındırıcı gazları uzun süre çıkarabilme
4. Rulmanların hassas seramik bilyelerle korunması sayesinde yüksek güvenlik ve uzun servis ömrü
5. Ani kapanma durumunda güç üretme işlevi
Özellikler:
| Modeli | CXF-200/1401 |
| Pompa Hızı(l/s,Hava) | 1400 |
| Sıkıştırma Oranı | >1×107 |
| Nihai Vakum(Pa) | ≤2×10-6 |
| Giriş Flanşı | DN200 ISOK(LF) |
| DN200 ISOF | |
| DN200 ISO CF | |
| Çıkış Flanşı | KF40 |
| Dönme Hızı (rpm) | 33000 |
| Çalıştırma Süresi (dak) | 6 |
| VIB (mm) | <0,05 |
| Destek Pompası (L/s) | 15 |
| Montaj veya yönlendirme | Herhangi |
| Soğutma yöntemi | su |
| Ağırlık(kg)(Kontrol Cihazıyla) | 51 |
Uygulamalar:
Seri manyetik olarak kaldırılan moleküler pompalar esas olarak yarı iletken imalatı, klips imalatı, endüstriyel kaplama ve bilimsel aletler alanlarına, özellikle de aşındırma, CVD, PVD ve iyon implantasyonunda bulunan aşındırıcı gazların ve normal sıcaklıkta kolayca pıhtılaşan gazların çıkarılması için uygulanır.
