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Produktdetails:
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| Flansch: | DN150CF | Pumpgeschwindigkeit: | 230 l/s Luft |
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| Ultimativer Druck: | 2.7E-8 | Arbeitsspannung: | 7kv |
| Hervorheben: | Sputterionenpumpe,Starcell-Ionenpumpe |
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Ionenpumpe, 2L-200B, DN150CF, 230L/s Luft, Enddruck 2,7E-8Pa
Eine Sputter-Ionenpumpe ist eine Vakuumerzeugungsanlage zur Erzielung eines sauberen Ultrahochvakuums.
Die Ionenpumpe arbeitet in einem geschlossenen System, das keine kontinuierlich arbeitende Vorpumpe erfordert.
Vorteile:
1. Sauberkeit
2. Hoher Vakuumgrad
3. Kein Lärm
4. Keine Vibration
5. Komfort im Betrieb.
Anwendungen:
Die Sputter-Ionen-Pumpe ist die Hauptpumpe für ölfreie Ultrahochvakuumanlagen und kann für wissenschaftliche Experimentiergeräte wie Beschleuniger für hochenergetische Teilchen, kontrollierte thermonukleare Reaktionsgeräte, elektrische Vakuumgeräte, Halbleitermaterialien, elektronische Mikroskope und Massenspektrometer sowie andere Industriegeräte, die Ultrahochvakuum erfordern, eingesetzt werden.
Spezifikationen:
| Modell | 2L-200B | ||
| Flansch | DN150CF | ||
| Saugvermögen (L/S) | ( Luft) | 230 | |
| Pumpgeschwindigkeit | (Ar) | 2.4 | |
| Anlaufdruck (Pa) | ≤5×10-4 | ||
| Enddruck (Pa) | 2,7×10-8 | ||
| (℃)Backtemperatur | <200 | ||
| Mit Magnet | |||
| Ohne Magnet | <300 | ||
| Arbeitsspannung (KV) | 7 | ||
| Elektrodeneinheit | 4 | ||
| Abmessung (mm) | 200×140(4-M12) | ||
| L*B*H (mm) | 500×265×430 | ||
| (kg) Gewicht | 100 | ||
Ansprechpartner: Mr. Shawn Liu
Telefon: 86-10-82548271
Faxen: 86-010-62564613