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商品の詳細:
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| 潤滑: | マグレフ | フランジ: | ISO-K/CF |
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| 冷却: | 水 | 排気速度: | 2300L/s N2 |
| ハイライト: | トルボ分子ポンプ,ターボ分子真空ポンプ |
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リニアポンプ、CXF-250/2300、ISO-K/CF、水冷、外部コントローラ
磁気浮上分子ポンプは、磁力によって軸が支持されるポンプであり、現代の半導体製造、チップ製造、工業用メッキおよび科学機器の分野のアプリケーション要件を満たします。
テクノロジー:
利点:
このポンプは、運転時の摩擦がゼロで消費電力が低い、ポンプ無給油で真にクリーンな高真空や超高真空が容易に得られる、腐食性ガスを長期間抽出できる、精密セラミックボールによる軸受の保護と突然の停電時の発電機能により高い安全性と長寿命などの利点を持っています。摩擦、汚染、メンテナンスがなく、振動が少ないという利点があり、任意の方向に設置できます。
アプリケーション:
エッチング、CVD、PVD、イオン注入時に存在する腐食性ガスや、半導体製造、クリップ製造、工業用メッキ、科学機器などの分野での常温で凝集しやすいガスの除去。
仕様:
| フランジ(内側) | DN250 CF/ISO-K、ISO-F |
| フランジ(アウト) KF | DN40 |
| 排気速度(L/s) | N2:2300 |
| Ar:2250 | |
| 彼:1900 | |
| H2:850 | |
| 圧縮率 | N2:108 |
| Ar:108 | |
| 彼:104 | |
| H2:103 | |
| 到達圧力(Pa) | CF:1×10-6 |
| ISO-K/F:6×10-6 | |
| 最大。連続真空前圧力(Pa) | 60 |
| 最大。前真空圧力 | N2:250 |
| 全体のガス (sccm) | N2:3600 |
| アル:1400 | |
| 彼:2800 | |
| H2:2100 | |
| 回転速度(rpm) | 27000 |
| 助走時間(分) | ≤11 |
| 冷却タイプ、標準 | 水 |
| 冷却水消費量(L/min) | 1 |
| 冷却水温度(℃) | 20 |
| 電源接続: 電圧 (V AC) | 220 |
| コントローラモデル | CXF-2300 |
| 重量 (kg) | 59(ISO-K/F) 62(CF) |
コンタクトパーソン: Mr. Shawn Liu
電話番号: 86-10-82548271
ファックス: 86-010-62564613