外部制御 マグレフポンプ ターボ真空ポンプ 水冷却モータードライブ
リニアポンプ、CXF-250/2300、ISO-K/CF、水冷、外部コントローラ 磁気浮上分子ポンプは、磁力によって軸が支持されるポンプであり、現代の半導体製造、チップ製造、工業用メッキおよび科学機器の分野のアプリケーション要件を満たします。 テクノロジー: 磁気軸受の制御技術:高度な国際制御理論に基づいた 5 軸磁気浮上により、安定した浮上と信頼性の高い動作などの高速シャフトの重要な利点が保証されます。 モーター駆動制御技術:高効率高速DCモーターとサーボ制御システムにより、モーターのエネルギーを最大限に引き出し、軸の回転速度を自動的に補償し、安定した起動、確実な動作、動的エネルギーの自動調...
外部コントローラ磁気浮上ポンプ、水冷磁気浮上ポンプ
,Water Cooling Maglev Pump
リニアポンプ、CXF-250/2300、ISO-K/CF、水冷、外部コントローラ
磁気浮上分子ポンプは、磁力によって軸が支持されるポンプであり、現代の半導体製造、チップ製造、工業用メッキおよび科学機器の分野のアプリケーション要件を満たします。
テクノロジー:
- 磁気軸受の制御技術:高度な国際制御理論に基づいた 5 軸磁気浮上により、安定した浮上と信頼性の高い動作などの高速シャフトの重要な利点が保証されます。
- モーター駆動制御技術:高効率高速DCモーターとサーボ制御システムにより、モーターのエネルギーを最大限に引き出し、軸の回転速度を自動的に補償し、安定した起動、確実な動作、動的エネルギーの自動調整機能を実現します。
- カーボンファイバー複合ローター技術:高強度アルミニウム合金と軽量カーボン繊維を複合して作られています。大幅な軽量化と強度の大幅な向上を実現し、高速回転、高性能、高信頼性の目標を達成します。
- 耐食技術:チャンバー内部品の表面には特殊な処理が施されており、半導体製造工程における腐食性ガスによる腐食に長期間耐えることができます。また、ポンプ軸内にはN2などの不活性ガスを封入し、ポンプ内の低真空部を保護し、腐食性ガスを長期間安定して排気する機能を実現しています。
- 加熱温度制御システム:電熱ヒーターと温度調節器を備え、冷却水、エアボーン加熱、電熱、保護ガスによる熱を運転中に監視・制御でき、ポンプ内の温度を長期間一定に保つことができ、一部のガス状物質は常温では固体にならずポンプ内に堆積せず、エッチングなどの特殊なプロセスの要求にも対応できます。
利点:
このポンプは、運転時の摩擦がゼロで消費電力が低い、ポンプ無給油で真にクリーンな高真空や超高真空が容易に得られる、腐食性ガスを長期間抽出できる、精密セラミックボールによる軸受の保護と突然の停電時の発電機能により高い安全性と長寿命などの利点を持っています。摩擦、汚染、メンテナンスがなく、振動が少ないという利点があり、任意の方向に設置できます。
アプリケーション:
エッチング、CVD、PVD、イオン注入時に存在する腐食性ガスや、半導体製造、クリップ製造、工業用メッキ、科学機器などの分野での常温で凝集しやすいガスの除去。
仕様:
| フランジ(内側) | DN250 CF/ISO-K、ISO-F |
| フランジ(アウト) KF | DN40 |
| 排気速度(L/s) | N2:2300 |
| Ar:2250 | |
| 彼:1900 | |
| H2:850 | |
| 圧縮率 | N2:108 |
| Ar:108 | |
| 彼:104 | |
| H2:103 | |
| 到達圧力(Pa) | CF:1×10-6 |
| ISO-K/F:6×10-6 | |
| 最大。連続真空前圧力(Pa) | 60 |
| 最大。前真空圧力 | N2:250 |
| 全体のガス (sccm) | N2:3600 |
| アル:1400 | |
| 彼:2800 | |
| H2:2100 | |
| 回転速度(rpm) | 27000 |
| 助走時間(分) | ≤11 |
| 冷却タイプ、標準 | 水 |
| 冷却水消費量(L/min) | 1 |
| 冷却水温度(℃) | 20 |
| 電源接続: 電圧 (V AC) | 220 |
| コントローラモデル | CXF-2300 |
| 重量 (kg) | 59(ISO-K/F) 62(CF) |